Beneq fortalece su liderazgo en ALD industrial de alto volumen

21 Jul, 2016, 15:30 BST de Beneq

ESPOO, Finlandia, July 21, 2016 /PRNewswire/ --

Se presentan los nuevo productos Beneq R11™ y Beneq T2S™ en ALD2016

Beneq, destacado proveedor de equipamiento ALD y servicios de recubrimiento de película fina, anunció hoy dos nuevas soluciones de equipamiento de película fina para clientes industriales que necesitan de una capacidad superior y costes de proceso inferior en aplicaciones ALD avanzadas. Los nuevos productos está previsto revolucionen los estándares de la velocidad de recubrimiento dentro de la industria ALD.  

Beneq R11™ - Recubrimiento ALD especial de elevada precisión y ultra-rápido  

Beneq R11 es la última adición de la amplia cartera de Beneq de soluciones espaciales de alto rendimiento ALD para su uso industrial. Proporciona una solución óptima para ALD de altas prestaciones en wafers de aplicaciones industriales. Se trata de la elección ideal de equipamiento cuando los factores de impulso destacados con la velocidad, el coste, la temperatura de bajo proceso y la calidad de película más delgada posible.

Con Beneq R11, es posible conseguir por primera vez el uso de los procesos PEALD (Plasma Enhanced ALD) en fabricación de alto volumen. El sistema se usa en aplicaciones de barrera, aislamiento y anti-corrosión para MEMS, LED, OLED, fotovoltaicos, semiconductores de alta potencia, sensores y otros.

Beneq T2S™ - Equipamiento de tipo lote de wafer automatizado 

Beneq T2S es el miembro más nuevo de la cartera de equipamiento de producción basada en wafer de Beneq. Ofrece una combinación única de lotes de alta capacidad en procesamiento y automatización estándar de tipo cassette-to-cassette. Beneq T2S se ha diseñado de forma específica para encajar en los requisitos de los semiconductores, incluyendo los requisitos de seguridad SEMI S2 y bajo número de partículas.

Beneq T2S encaja a la perfección con la fabricación de volumen elevado en varias aplicaciones basadas en wafer, incluyendo MEMS, LED, OLED, cabezales de tinta de impresión y mucho más. El lote térmico de los procesos ALD de Beneq T2S es ideal para los procesos de óxido y nitruro usados en las finalidades dieléctricas, conductoras, de barrera y pasivación.

Los nuevos productos se presentarán oficialmente en ALD2016 en Irlanda 

Los nuevos productos, Beneq R11 y Beneq T2S, se presentarán oficialmente la semana que viene en ALD2016 - la 16th International Conference on Atomic Layer Deposition de Dublín, Irlanda.

Beneq® es el principal proveedor de equipamiento ALD y servicios de recubrimiento de película fina, además de un fabricante destacado mundial de pantallas electroluminiscentes de película fina basadas en ALD.  

Las soluciones de película fina de Beneq mejoran el rendimiento y duración de los materiales electrónicos, ópticos y sensibles, además de proteger frente a la humedad, corrosión y deslustre.  

Las pantallas resistentes, transparentes y personalizadas Lumineq®, de Beneq, se usan en un amplio abanico de aplicaciones en condiciones extremas. Las pantallas Lumineq TASEL® totalmente transparentes combinan una fiabilidad superior con una experiencia de visualizado a través única.  

Si desea más información:
Matias Impivaara, responsable de marketing y comunicaciones, +358-9-7599-530.
http://www.beneq.com
http://www.beneq.com/beneq-r11.html
http://www.beneq.com/beneq-t2s.html

FUENTE Beneq