PHOTRONICS ET ASML CONCLUENT UNE ENTENTE DE RECHERCHE CONJOINTE SUR LA MISE AU POINT DE RÉTICULES POUR DES TECHNOLOGIES D'IMAGERIE À 0,10 MICRON

20 Juin, 2000, 11:12 BST de Photronics Inc.

<div> <P> Jupiter, Floride, le 13 juin /PR Newswire/ -- Photronics, Inc. (PLAB au Nasdaq), plus grand fournisseur au monde de photomasques, et ASML (ASML au Nasdaq), chef de file mondial en syst&amp;#232;mes de lithographie de pointe essentiels &amp;#224; la fabrication de circuits int&amp;#233;gr&amp;#233;s, ont annonc&amp;#233; aujourd'hui qu'elles avaient conclu une entente pour mettre au point conjointement des r&amp;#233;ticules perfectionn&amp;#233;s pour soutenir les premiers travaux de r&amp;#233;alisation des syst&amp;#232;mes de lithographie les plus avanc&amp;#233;s d'ASML. Les r&amp;#233;ticules serviront &amp;#224; &amp;#233;valuer les r&amp;#233;sultats de tranche sur les syst&amp;#232;mes ASML de 249 nanom&amp;#232;tres et 193 nanom&amp;#232;tres. Les donn&amp;#233;es de rendement des r&amp;#233;ticules et des syst&amp;#232;mes de lithographie qui les utilisent seront recueillies dans des installations situ&amp;#233;es chez Photronics, ASML et IMEC. ASML MaskTools, filiale qui fournit un &amp;#233;ventail de technologies d'extension optique pour am&amp;#233;liorer la latitude des proc&amp;#233;d&amp;#233;s photolithographie et le rendement des circuits int&amp;#233;gr&amp;#233;s dans le processus de fabrication, apportera &amp;#233;galement son expertise &amp;#224; cet effort conjoint. Photronics et ASML sont membres de IMEC, plus grand centre de recherche ind&amp;#233;pendant d'Europe pour la mise et point et l'accord de licence de technologies micro&amp;#233;lectroniques perfectionn&amp;#233;es. Les conditions financi&amp;#232;res de l'accord n'ont pas &amp;#233;t&amp;#233; d&amp;#233;voil&amp;#233;es. </P> <P> ASML fournira le canevas des r&amp;#233;ticules des lignes, espaces et fen&amp;#234;tres de contact n&amp;#233;cessaires &amp;#224; la r&amp;#233;alisation du syst&amp;#232;me. Ces canevas seront imag&amp;#233;s sur les r&amp;#233;ticules fabriqu&amp;#233;s par l'&amp;#233;quipe de recherche et de d&amp;#233;veloppement de Photronics au moyen des outils lithographiques et les proc&amp;#233;d&amp;#233;s de d&amp;#233;veloppement les plus perfectionn&amp;#233;s de la soci&amp;#233;t&amp;#233; comme extensions des produits Sub-Wavelength Reticle Solutions(MC) (SRS) de Photronics. Ces produits sont ax&amp;#233;s sur les strat&amp;#233;gies lithographiques divergentes employ&amp;#233;es par fonctions d'imagerie des fabricants de semiconducteurs sur les tranches plus petites que la longueur de la lumi&amp;#232;re servant &amp;#224; les exposer. Il existe actuellement trois gammes de produits SRS pour la correction binaire &amp;#224; proximit&amp;#233; optique de pointe et applications de d&amp;#233;phasage. Au d&amp;#233;part, l'entente de d&amp;#233;veloppement conjointe entre Photronics et ASML sera ax&amp;#233;e sur les r&amp;#233;ticules binaires de chrome sur quartz qui emploient des am&amp;#233;liorations optiques comme celles qui caract&amp;#233;risent le produit MaskRigger de ASML MaskTools. </P> <P> P Monsieur Steve Carlson, premier vice-pr&amp;#233;sident de la technologie de Photronics, a comment&amp;#233; : &amp;quot;Alors que la taille des semiconducteurs est bien inf&amp;#233;rieure &amp;#224; la longueur d'onde de la lumi&amp;#232;re utilis&amp;#233;e, l'interd&amp;#233;pendance des &amp;#233;l&amp;#233;ments du proc&amp;#233;d&amp;#233; de lithographie de la tranche s'accro&amp;#238;t de plus en plus. Cet effort fournit &amp;#224; notre soci&amp;#233;t&amp;#233; l'occasion de jouer un r&amp;#244;le important dans la compr&amp;#233;hension et l'optimisation de l'apport du r&amp;#233;ticule &amp;#224; ce nouvel environnement plus complexe. De plus, l'acc&amp;#232;s rapide aux r&amp;#233;sultats de production de la tranche nous permettra de raffiner nos technologies de traitement brevet&amp;#233;es et de faciliter la transition aux syst&amp;#232;mes de lithographie de tranche de la prochaine g&amp;#233;n&amp;#233;ration requises pour fabriquer des composantes d'une taille inf&amp;#233;rieure &amp;#224; 0,18 micron.&amp;quot; Il a ajout&amp;#233; : &amp;quot;Travailler avec des chefs de file de l'industrie comme ASML sur des recherches de r&amp;#233;alisation pr&amp;#233;liminaires pour leurs syst&amp;#232;mes les plus perfectionn&amp;#233;s repr&amp;#233;sente une ouverture excellente pour notre organisation de recherche et de d&amp;#233;veloppement.&amp;quot; </P> <P> Monsieur Bill Arnold, directeur scientifique de ASML, a d&amp;#233;clar&amp;#233; : &amp;quot;Le jour du r&amp;#233;ticule comme bien courant est arriv&amp;#233; et tous les &amp;#233;l&amp;#233;ments du syst&amp;#232;me de lithographie doivent &amp;#234;tre con&amp;#231;us pour les niveaux de rendement les plus &amp;#233;lev&amp;#233;s pour assurer la formation r&amp;#233;ussie de l'image de la tranche. En travaillant conjointement avec des entreprises comme Photronics, nous esp&amp;#233;rons mieux comprendre le r&amp;#233;ticule et voir comment il s'int&amp;#232;gre au reste de notre syst&amp;#232;me optique pour acc&amp;#233;l&amp;#233;rer la mise en place de strat&amp;#233;gies de lithographie &amp;#224; 0,10 micron pour nos clients communs.&amp;quot; </P> <P> Photronics est un fabricant chef de file mondial de photomasques. Les photomasques sont des plaques de quartz &amp;#224; haute pr&amp;#233;cision qui contiennent des images microscopiques de circuits &amp;#233;lectroniques. El&amp;#233;ments cl&amp;#233;s de la fabrication des semiconducteurs, les photomasques servent &amp;#224; transf&amp;#233;rer des canevas de circuits aux tranches de semiconducteurs durant la fabrication des circuits int&amp;#233;gr&amp;#233;s. Ils sont produits conform&amp;#233;ment aux plans de circuits fournis par les clients &amp;#224; des installations de fabrication situ&amp;#233;es strat&amp;#233;giquement en Asie, en Europe et en Am&amp;#233;rique du Nord. On peut obtenir des renseignements suppl&amp;#233;mentaires sur la soci&amp;#233;t&amp;#233; &amp;#224; l'adresse <A target="_blank" href="http://www.photronics.com.">http://www.photronics.com.</A> </P> <P> ASML, fond&amp;#233;e en 1984, est un chef de file mondial en syst&amp;#232;mes de lithographie de pointe essentiels &amp;#224; la fabrication de circuits int&amp;#233;gr&amp;#233;s. Les actions de ASML sont inscrites &amp;#224; la Bourse d'Amsterdam et au Nasdaq sous le symbole &amp;quot;ASML&amp;quot;. Visitez le site Web de la soci&amp;#233;t&amp;#233; &amp;#224; l'adresse <A target="_blank" href="http://www.asml.com">http://www.asml.com</A> pour obtenir plus d'information. </P> <P> &amp;quot;R&amp;#232;gle d'exon&amp;#233;ration&amp;quot; en vertu de la Private Securities Litigation Reform Act of 1995 : A l'exception des donn&amp;#233;es historiques, les sujets discut&amp;#233;s dans le pr&amp;#233;sent communiqu&amp;#233; que l'on peut consid&amp;#233;rer comme des &amp;#233;nonc&amp;#233;s prospectifs peuvent &amp;#234;tre assujettis &amp;#224; certains risques et incertitudes pouvant entra&amp;#238;ner un &amp;#233;cart consid&amp;#233;rable entre les r&amp;#233;sultats r&amp;#233;els et les r&amp;#233;sultats pr&amp;#233;vus. Ces risques et incertitudes incluent l'&amp;#233;volution du march&amp;#233;, les prix offerts par la concurrence, l'efficacit&amp;#233; de la fabrication et de l'approvisionnement et autres risques d&amp;#233;taill&amp;#233;s de temps &amp;#224; autre dans les rapports de la soci&amp;#233;t&amp;#233; aupr&amp;#232;s de la SEC. La soci&amp;#233;t&amp;#233; ne s'estime pas tenue de mettre &amp;#224; jour les renseignements contenus dans le pr&amp;#233;sent communiqu&amp;#233;. </div> <div> <P> Jupiter, Floride, le 13 juin /PR Newswire/ -- Photronics, Inc. (PLAB au Nasdaq), plus grand fournisseur au monde de photomasques, et ASML (ASML au Nasdaq), chef de file mondial en syst&amp;#232;mes de lithographie de pointe essentiels &amp;#224; la fabrication de circuits int&amp;#233;gr&amp;#233;s, ont annonc&amp;#233; aujourd'hui qu'elles avaient conclu une entente pour mettre au point conjointement des r&amp;#233;ticules perfectionn&amp;#233;s pour soutenir les premiers travaux de r&amp;#233;alisation des syst&amp;#232;mes de lithographie les plus avanc&amp;#233;s d'ASML. Les r&amp;#233;ticules serviront &amp;#224; &amp;#233;valuer les r&amp;#233;sultats de tranche sur les syst&amp;#232;mes ASML de 249 nanom&amp;#232;tres et 193 nanom&amp;#232;tres. Les donn&amp;#233;es de rendement des r&amp;#233;ticules et des syst&amp;#232;mes de lithographie qui les utilisent seront recueillies dans des installations situ&amp;#233;es chez Photronics, ASML et IMEC. ASML MaskTools, filiale qui fournit un &amp;#233;ventail de technologies d'extension optique pour am&amp;#233;liorer la latitude des proc&amp;#233;d&amp;#233;s photolithographie et le rendement des circuits int&amp;#233;gr&amp;#233;s dans le processus de fabrication, apportera &amp;#233;galement son expertise &amp;#224; cet effort conjoint. Photronics et ASML sont membres de IMEC, plus grand centre de recherche ind&amp;#233;pendant d'Europe pour la mise et point et l'accord de licence de technologies micro&amp;#233;lectroniques perfectionn&amp;#233;es. Les conditions financi&amp;#232;res de l'accord n'ont pas &amp;#233;t&amp;#233; d&amp;#233;voil&amp;#233;es. </P> <P> ASML fournira le canevas des r&amp;#233;ticules des lignes, espaces et fen&amp;#234;tres de contact n&amp;#233;cessaires &amp;#224; la r&amp;#233;alisation du syst&amp;#232;me. Ces canevas seront imag&amp;#233;s sur les r&amp;#233;ticules fabriqu&amp;#233;s par l'&amp;#233;quipe de recherche et de d&amp;#233;veloppement de Photronics au moyen des outils lithographiques et les proc&amp;#233;d&amp;#233;s de d&amp;#233;veloppement les plus perfectionn&amp;#233;s de la soci&amp;#233;t&amp;#233; comme extensions des produits Sub-Wavelength Reticle Solutions(MC) (SRS) de Photronics. Ces produits sont ax&amp;#233;s sur les strat&amp;#233;gies lithographiques divergentes employ&amp;#233;es par fonctions d'imagerie des fabricants de semiconducteurs sur les tranches plus petites que la longueur de la lumi&amp;#232;re servant &amp;#224; les exposer. Il existe actuellement trois gammes de produits SRS pour la correction binaire &amp;#224; proximit&amp;#233; optique de pointe et applications de d&amp;#233;phasage. Au d&amp;#233;part, l'entente de d&amp;#233;veloppement conjointe entre Photronics et ASML sera ax&amp;#233;e sur les r&amp;#233;ticules binaires de chrome sur quartz qui emploient des am&amp;#233;liorations optiques comme celles qui caract&amp;#233;risent le produit MaskRigger de ASML MaskTools. </P> <P> P Monsieur Steve Carlson, premier vice-pr&amp;#233;sident de la technologie de Photronics, a comment&amp;#233; : &amp;quot;Alors que la taille des semiconducteurs est bien inf&amp;#233;rieure &amp;#224; la longueur d'onde de la lumi&amp;#232;re utilis&amp;#233;e, l'interd&amp;#233;pendance des &amp;#233;l&amp;#233;ments du proc&amp;#233;d&amp;#233; de lithographie de la tranche s'accro&amp;#238;t de plus en plus. Cet effort fournit &amp;#224; notre soci&amp;#233;t&amp;#233; l'occasion de jouer un r&amp;#244;le important dans la compr&amp;#233;hension et l'optimisation de l'apport du r&amp;#233;ticule &amp;#224; ce nouvel environnement plus complexe. De plus, l'acc&amp;#232;s rapide aux r&amp;#233;sultats de production de la tranche nous permettra de raffiner nos technologies de traitement brevet&amp;#233;es et de faciliter la transition aux syst&amp;#232;mes de lithographie de tranche de la prochaine g&amp;#233;n&amp;#233;ration requises pour fabriquer des composantes d'une taille inf&amp;#233;rieure &amp;#224; 0,18 micron.&amp;quot; Il a ajout&amp;#233; : &amp;quot;Travailler avec des chefs de file de l'industrie comme ASML sur des recherches de r&amp;#233;alisation pr&amp;#233;liminaires pour leurs syst&amp;#232;mes les plus perfectionn&amp;#233;s repr&amp;#233;sente une ouverture excellente pour notre organisation de recherche et de d&amp;#233;veloppement.&amp;quot; </P> <P> Monsieur Bill Arnold, directeur scientifique de ASML, a d&amp;#233;clar&amp;#233; : &amp;quot;Le jour du r&amp;#233;ticule comme bien courant est arriv&amp;#233; et tous les &amp;#233;l&amp;#233;ments du syst&amp;#232;me de lithographie doivent &amp;#234;tre con&amp;#231;us pour les niveaux de rendement les plus &amp;#233;lev&amp;#233;s pour assurer la formation r&amp;#233;ussie de l'image de la tranche. En travaillant conjointement avec des entreprises comme Photronics, nous esp&amp;#233;rons mieux comprendre le r&amp;#233;ticule et voir comment il s'int&amp;#232;gre au reste de notre syst&amp;#232;me optique pour acc&amp;#233;l&amp;#233;rer la mise en place de strat&amp;#233;gies de lithographie &amp;#224; 0,10 micron pour nos clients communs.&amp;quot; </P> <P> Photronics est un fabricant chef de file mondial de photomasques. Les photomasques sont des plaques de quartz &amp;#224; haute pr&amp;#233;cision qui contiennent des images microscopiques de circuits &amp;#233;lectroniques. El&amp;#233;ments cl&amp;#233;s de la fabrication des semiconducteurs, les photomasques servent &amp;#224; transf&amp;#233;rer des canevas de circuits aux tranches de semiconducteurs durant la fabrication des circuits int&amp;#233;gr&amp;#233;s. Ils sont produits conform&amp;#233;ment aux plans de circuits fournis par les clients &amp;#224; des installations de fabrication situ&amp;#233;es strat&amp;#233;giquement en Asie, en Europe et en Am&amp;#233;rique du Nord. On peut obtenir des renseignements suppl&amp;#233;mentaires sur la soci&amp;#233;t&amp;#233; &amp;#224; l'adresse <A target="_blank" href="http://www.photronics.com.">http://www.photronics.com.</A> </P> <P> ASML, fond&amp;#233;e en 1984, est un chef de file mondial en syst&amp;#232;mes de lithographie de pointe essentiels &amp;#224; la fabrication de circuits int&amp;#233;gr&amp;#233;s. Les actions de ASML sont inscrites &amp;#224; la Bourse d'Amsterdam et au Nasdaq sous le symbole &amp;quot;ASML&amp;quot;. Visitez le site Web de la soci&amp;#233;t&amp;#233; &amp;#224; l'adresse <A target="_blank" href="http://www.asml.com">http://www.asml.com</A> pour obtenir plus d'information. </P> <P> &amp;quot;R&amp;#232;gle d'exon&amp;#233;ration&amp;quot; en vertu de la Private Securities Litigation Reform Act of 1995 : A l'exception des donn&amp;#233;es historiques, les sujets discut&amp;#233;s dans le pr&amp;#233;sent communiqu&amp;#233; que l'on peut consid&amp;#233;rer comme des &amp;#233;nonc&amp;#233;s prospectifs peuvent &amp;#234;tre assujettis &amp;#224; certains risques et incertitudes pouvant entra&amp;#238;ner un &amp;#233;cart consid&amp;#233;rable entre les r&amp;#233;sultats r&amp;#233;els et les r&amp;#233;sultats pr&amp;#233;vus. Ces risques et incertitudes incluent l'&amp;#233;volution du march&amp;#233;, les prix offerts par la concurrence, l'efficacit&amp;#233; de la fabrication et de l'approvisionnement et autres risques d&amp;#233;taill&amp;#233;s de temps &amp;#224; autre dans les rapports de la soci&amp;#233;t&amp;#233; aupr&amp;#232;s de la SEC. La soci&amp;#233;t&amp;#233; ne s'estime pas tenue de mettre &amp;#224; jour les renseignements contenus dans le pr&amp;#233;sent communiqu&amp;#233;. </div>