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      Taiyo Holdings推出下一代半導體封裝材料FPIM Series 首次實現12英吋晶圓上700納米CD三層RDL制備


      新聞提供者

      Taiyo Holdings Co. Ltd.

      2026 年 09 月 15 日 16:19 CST

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      相關論文於IEEE ESTC 2026半導體與電子器件封裝技術及相關材料國際會議上發表

      東京2026年9月14日 /美通社/ -- 總部位於東京的Taiyo Holdings Co., Ltd.(證券代碼:4626,以下簡稱「Taiyo Holdings」)於2026年9月10日在芬蘭赫爾辛基舉辦的11th IEEE Electronics System-Integration Technology Conference(或IEEE ESTC 2026)上發佈了關於下一代半導體封裝材料FPIM Series(以下簡稱「該材料」)的研究論文。FPIM Series是面向雙大馬士革工藝的細間距RDL (*1)負顯影i線感光絕緣材料。

      該論文由Taiyo Holdings與全球頂尖半導體研究機構imec聯合撰寫。RDL是先進半導體封裝結構中的核心技術,能夠實現更高效的電氣連接。目前,RDL主要採用半加成工藝(SAP) (*2)製造。據imec判斷,隨著行業不斷追求更小間距的布線,雙大馬士革工藝(*3)將成為1.6微米及以下間距布線制備的關鍵。為此,Taiyo Holdings開發出了這款面向雙大馬士革工藝的下一代細間距RDL材料,並於2022年10月啟動與imec的聯合研究。2025年11月,雙方曾聯合發表論文,宣佈已於12英吋晶圓上完成CD(*4)為1.6微米的三層RDL結構製備。

      在本次研究中,研究人員使用該材料在12英吋晶圓上完成三層RDL結構制備並開展性能評估。測試結果顯示,互連線路與通孔均達成700納米CD的目標。700納米CD的第一層金屬層(M1)在漏電流與電阻兩項指標上也展現出優異的電氣特性。通過與imec的聯合研究證實,該材料具備出色的電氣特性與高分辨率,且可適配CMP工藝(*5)。上述成果是下一代先進封裝互連技術領域的重要突破,為亞微米級RDL設計規則的後續發展奠定了基礎。

      展望未來,Taiyo Holdings的目標是在晶圓上實現500 納米及以下CD的RDL制備,同時持續開展電氣特性的長期性能與可靠性驗證。該公司將繼續研發半導體封裝領域的相關材料,助力AI半導體性能進一步提升,推動半導體封裝行業發展。Taiyo Holdings已於2025年開始少量提供該材料樣品,供研發使用。

      註:
      (*1) RDL(重布線層):在半導體芯片表面形成,用於重新分配電氣布線。
      (*2) SAP:先在整片基底上沉積薄種子層,再通過電鍍在指定區域形成布線圖形的工藝。
      (*3) 雙大馬士革工藝:先在絕緣膜內製作布線溝槽,再通過濺射、CVD、電鍍等方式填充溝槽,以此形成布線圖形的工藝。
      (*4) CD(關鍵尺寸):指精細圖形的尺寸。
      (*5) CMP(化學機械/平坦化/拋光工藝):利用化學與機械作用實現晶圓表面平坦化的半導體製造工藝。

      - 會議信息與報告詳情
      會議名稱:11th IEEE Electronics System-Integration Technology Conference
      舉辦地點:芬蘭赫爾辛基
      舉辦時間:2026年9月9日(週三)至9月11日(週五)
      報告分會場:MIP 1:用於先進基板的介質與玻璃材料
      聯合論文標題:《A Novel i-Line Photosensitive Dielectric Material Enabling 700 nm Polymer Damascene RDL for Advanced Packaging》(一種用於先進封裝、可實現700納米聚合物大馬士革RDL的新型i線光敏介質材料)
      相關鏈接:https://www.estc-conference.net/

      - imec與Taiyo Holdings的合作
      總部位於比利時的imec是全球領先的先進半導體技術研發創新機構。該機構聯合全球高校與企業推進開放式創新,助力尖端半導體技術的發展。2022年10月,imec與Taiyo Holdings啟動聯合研發,研發對象為適用於大馬士革工藝、面向下一代半導體封裝的細間距RDL負顯影感光絕緣材料。自2024年11月起,Taiyo Holdings派遣研發人員駐場imec,加強緊密合作,持續開展先進半導體材料的研發。2025年11月,雙方宣佈借助RDL材料FPIM Series,在12英吋晶圓上實現1.6微米布線CD、2微米通孔CD的工藝成果。

      圖1:評估樣品的制備
      https://cdn.kyodonewsprwire.jp/prwfile/release/M108899/202608274838/_prw_PI2fl_1SbJFiHz.png

      圖2:產品圖
      https://cdn.kyodonewsprwire.jp/prwfile/release/M108899/202608274838/_prw_PI1fl_NExAX0Q4.png

      關於Taiyo Holdings Co., Ltd.:https://kyodonewsprwire.jp/attach/202608274838-O1-s1h2S4Ka.pdf

      官網:https://www.taiyo-hd.co.jp/en/index.html

      SOURCE Taiyo Holdings Co. Ltd.

      Modal title

      Also from this source

      Taiyo Holdings推出次世代半導體封裝材料FPIM (TM) Series 成功於12吋晶圓上首次實現CD 1.6微米三層RDL結構

      總部位於東京的Taiyo Holdings Co., Ltd.(證券代碼:4626;以下簡稱「Taiyo Holdings」)於2025年11月13日在14th IEEE CPMT Symposium Japan...

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