KLA-Tencor(TM) gibt die Auslieferung der ersten LMS IPRO5 bekannt Masken-Messsystem der nächsten Generation

MILPITAS, Kalifornien, June 7, 2011 /PRNewswire/ --

- Beschleunigung fortgeschrittener Maskenentwicklung und -fertigung

Heute hat KLA-Tencor Corporation(TM) (NASDAQ: KLAC) die Auslieferung des ersten LMS IPRO5 Messsystems für Maskenstrukturen bekannt gegeben. Der Empfänger, das Advanced Mask Technology Center (AMTC) in Dresden, wird das Messsystem für die Entwicklung seiner fortgeschrittenen Maskentechnologie einsetzen, welches zur Qualifizierung der Strukturlagegenauigkeit kritischer Schichten in integrierten Schaltkreisen der nächsten Generation dient.

Die Entwicklung der LMS IPRO5 wurde in einem Verbundprojekt vom Bundesministerium für Bildung und Forschung im Rahmen des Projekts CDuR32, "Critical Dimension und Registration für die 32nm Maskenlithographie" finanziell unterstützt. Ziel des Projekts CDuR32 ist es, der Region Dresden, dem führenden Elektronikstandort in Europa, einen Vorsprung in der Entwicklung und Fertigung moderner Masken zu verschaffen. CDuR32 entspricht auch den Zielen des European Nanoelectronics Initiative Advisory Council (ENIAC) (Initiative des Europäischen Rates zur Etablierung eines gemeinschaftlichen Unternehmens im Bereich Nanotechnologie) zum Ausbau der Position des europäischen Marktes in der Nanotechnologie. Der Zugang zu dieser Spitzen-Messtechnik ist massgeblich, wenn es darum geht, dass die Maskenspezifikationen die engen Toleranzen in Grösse und Position für die Herstellung von Chips der nächsten Generation einhalten.

Die Physikalisch-Technische Bundesanstalt (PTB) hat wesentlich zu dem Projekt beigetragen. Sie entwickelte eine Referenzmesstechnik für LMS IPRO5, um die Längen- und Geradheitsmessungen zu validieren und die Kalibrierung des Geräts zu ermöglichen. Wissenschaftler der PTB erforschten darüber hinaus mittels grundlegender experimenteller und theoretischer Arbeiten die Anwendbarkeit der Scatterometrie sowie der Elektronen- und Rastersondenmikroskopie in der Maskenmesstechnik.

Zu Beginn des Projekts war die LMS IPRO Produktgruppe Teil der Geschäftseinheit Microelectronic Inspection Equipment (MIE) der Vistec Semiconductor Systems GmbH. Im September 2008 wurde die MIE-Geschäftseinheit von KLA-Tencor übernommen. Die Entwicklung und Fertigung der branchenführenden LMS IPRO Produktlinie bleibt auf deutschem Boden und zwar in Weilburg. Das zukunftsorientierte LMS IPRO5 unterstützt die Einhaltung der strengen Präzisionsanforderungen und Normen zur Qualifizierung der Strukturlagegenauigkeit der Masken für die modernen Lithographietechniken und 3Xnm bis 2Xnm Chips.

Über KLA-Tencor:

Die KLA-Tencor Corporation (NASDAQ: KLAC), weltweit führender Anbieter von Prozesskontroll- und Ertragsmanagementlösungen für die Halbleiterindustrie und zugehörige Branchen, arbeitet mit Kunden aus aller Welt zur Entwicklung von modernsten Inspektions- und Messgeräten zusammen. Diese Technologien werden für Halbeiter, Datenspeicherung, LED, Photovoltaikanlagen und ähnliche Branchen im Bereich Nanoelektrotechnik verwendet. Mit seinem Portfolio an Industriestandard-Produkten und seinem Team aus erstklassigen Ingenieuren und Wissenschaftlern hat das Unternehmen seine Kunden nunmehr seit 30 Jahren mit hochentwickelten Lösungen beliefert. KLA-Tencor hat seinen Unternehmenshauptsitz in Milpitas, Kalifornien, und verfügt über Kundenservicecenter in aller Welt. Weiterführende Informationen erhalten Sie auf www.kla-tencor.com. (KLAC-P)

Über AMTC:

Die Advanced Mask Technology Center GmbH & Co. KG (AMTC) ist ein Joint Venture von GLOBALFOUNDRIES und Toppan Photomasks. Mit dem AMTC ist ein weltweit führendes Zentrum für die Entwicklung und Fertigung moderner Photolithographiemasken entstanden. Kontakt: Christiane Demmler, Kommunikationsbeauftragte, 0351-4048-102, [email protected]. Für weitere Informationen besuchen Sie bitte http://www.amtc-dresden.de.

Zukunftsgerichtete Aussagen:

Andere Aussagen in dieser Pressemitteilung als historische Fakten wie etwa bezüglich des erwarteten Erfolgs von LMS IPRO5, Trends in der Halbleiterindustrie (und die diesbezüglich erwarteten Herausforderungen), der prognostizierte Nutzen des LMS IPRO5 für KLA-Tencors Kunden sowie die geschätzten Kosten, betrieblichen und andere möglichen Vorteile für die Anwender der LMS IPRO5 Anlagen sind zukunftsgerichtete Aussagen und unterliegen den durch den Private Securities Litigation Reform Act von 1995 in Kraft getretenen Safe Harbour-Richtlinien. Diese zukunftsgerichteten Aussagen basieren auf aktuellen Informationen und Prognosen und bergen zahlreiche Risiken und Unsicherheiten. Die tatsächlichen Ergebnisse können massgeblich von den in den Aussagen prognostizierten Resultaten aufgrund einer Vielzahl von Faktoren abweichen, wie etwa Verzögerungen im Einsatz neuer Technologien (ob aufgrund von Kosten- oder Funktionsproblemen oder anderen Erschwernissen), die Einführung ähnlicher Produkte durch andere Unternehmen oder unerwartete technologische Herausforderungen oder Einschränkungen, die die Implementierung, die Leistung oder den Nutzen der Produkte von KLA-Tencor beeinflussen.