Společnost DB HiTek se zúčastní veletrhu PCIM 2026, chce posílit svou přítomnost na evropském trhu

• Největší evropský veletrh výkonových polovodičů se bude konat v německém Norimberku ve dnech 9. až 11. června
• Společnost představí nejnovější vývoj v oblasti SiC a GaN a zdůrazní své schopnosti v oblasti výkonových polovodičů

SOUL, Jižní Korea, 29. dubna 2026 /PRNewswire/ -- Společnost DB HiTek, přední zakázková slévárna zaměřená na 8palcové wafery, oznámila svou účast na veletrhu PCIM (Power Conversion and Intelligent Motion) Europe 2026, přední evropské výstavě výkonových polovodičů. Akce se bude konat v německém Norimberku od 9. do 11. června (místního času) a je dalším krokem společnosti v rozšiřování její přítomnosti na evropském trhu.

Po úspěšném debutu na veletrhu PCIM v roce 2025, kde společnost uspořádala osobní setkání s desítkami zákazníků o výrobních procesech a možnostech spolupráce, nyní DB HiTek na tento úspěch navazuje. Po loňské návštěvnosti přes 1 000 lidí na stánku a při pokračujících obchodních jednáních firma očekává, že se tyto kontakty letos promítnou do konkrétních obchodních výsledků prostřednictvím dalších partnerství.

Na letošním ročníku představí DB HiTek pokrok ve svých procesech nové generace založených na SiC (karbid křemíku) a GaN (nitrid galia). Společnost rovněž vyzdvihne svou špičkovou technologii BCDMOS (Bipolar-CMOS-DMOS), která tvoří klíčovou součást jejího portfolia řešení v oblasti řízení spotřeby energie. Je již připraven nabitý program schůzek s globálními klienty, což odráží pokračující růst spolupráce.

Podle společnosti Yole Développement, zabývající se průzkumem trhu, čeká globální trhy s výkonovými polovodiči na bázi SiC a GaN rychlý růst. Trh se SiC by měl podle prognóz vzrůst z přibližně 4,8 miliardy dolarů v roce 2026 na 10,4 miliardy dolarů do roku 2030, což představuje průměrnou roční míru růstu (CAGR) ve výši 21 %. Ve stejném období se očekává, že trh s GaN poroste z 900 milionů dolarů na 2,9 miliardy dolarů, což znamená CAGR ve výši 33 %.

V prosinci 2025 společnost DB HiTek zahájila MPW (Multi-Project Wafer) běhy pro své procesy SiC a GaN a vyrobila vzorky pro více než deset zákaznických produktů. Ty byly dodány mezi březnem a dubnem 2026. Nyní probíhá hodnocení ze strany zákazníků a zpětná vazba bude zapracována do finální verifikace procesů. Zahájení plnohodnotné sériové výroby je naplánováno na rok 2027.

V současnosti udržuje společnost DB HiTek sériovou výrobu pro přibližně 400 zákazníků, přičemž se zaměřuje především na své vlajkové produkty v oblasti výkonových polovodičů. Firma také spolupracuje s širokou zákaznickou základnou využívající specializované technologie obrazových senzorů, včetně rentgenových, Global Shutter a SPAD (Single Photon Avalanche Diode). Její portfolio aplikací se stále více přesouvá směrem k průmyslovým a automobilovým produktům, což odráží rostoucí poptávku v těchto odvětvích.

Logo - https://mma.prnewswire.com/media/2656225/image_5026888_21003402_Logo.jpg