Beneq stärkt seine führende Position als Anbieter von industriellen Großserien-ALD
ESPOO, Finnland, July 20, 2016 /PRNewswire/ --
Vorstellung neuer Beneq R11™- und Beneq T2S™-Produkte bei ALD2016
Beneq, der führende Anbieter von ALD-Geräten und Dünnfilmbeschichtungsservices stellte heute zwei neue Dünnfilm-Gerätelösungen für Industriekunden vor, die bei modernen ALD-Anwendungen hohe Kapazität und niedrige Prozesskosten fordern. Die neuen Produkte sollen in der ALD-Branche die Standards der Beschichtungsgeschwindigkeit revolutionieren.
Beneq R11™ - Ultraschnelle räumliche Hochpräzisions-ALD-Beschichtung
Beneq R11 ist das neueste Produkt im umfassenden Beneq-Portfolio, das aus ALD-Raumlösungen mit hohem Durchsatz für die industrielle Anwendung besteht. Dieses Produkt ist eine optimale Lösung für Hochleistungs-ALD bei Wafern in Industrieanwendungen. Es ist die ideale Gerätewahl, wenn Geschwindigkeit, Kosten, geringe Prozesstemperatur und höchstmögliche Filmqualität die wichtigsten Faktoren sind.
Mit Beneq R11 ist es erstmals möglich, bei Produktionsprozessen mit hohem Volumen das PEALD-Verfahren (Plasma Enhanced ALD) zu verwenden. Das System kommt bei Barrieren, Isolations- und Antikorrosionsanwendungen für MEMS, LED, OLED, Photovoltaik, hochleistungsstarken Halbleitern, Sensoren usw. zum Einsatz.
Beneq T2S™ - Automatisierte Chargen-Wafer-Ausrüstung
Beneq T2S ist das neueste Mitglied im Beneq-Geräteportfolio für die waferbasierte Produktion. Es bietet eine einzigartige Kombination aus Chargenbetrieb mit hoher Kapazität und herkömmlicher Kassetten-zu-Kassetten-Automatisierung. Der Beneq T2S wurde speziell für die Halbleiter-Anforderungen entwickelt, einschließlich der SEMI S2-Sicherheitsanforderungen und geringen Partikelzahl.
Beneq T2S eignet sich perfekt für die Hochvolumen-Produktion in verschiedenen waferbasierten Anwendungen, einschließlich MEMS, LED, OLED, Tintenstrahldruckerköpfen usw. Der thermische ALD-Chargenprozess des Beneq T2S ist ideal für Oxid- und Nitridverfahren, die für delektrische, Halbleiter-, Barrieren- und Passivierungszwecke verwendet werden.
Offizielle Vorstellung der neuen Produkte bei der ALD2016 in Irland
Beide neuen Produkte, sowohl Beneq R11 als auch Beneq T2S, werden offiziell nächste Woche bei der ALD2016 - der 16. Internationalen Konferenz für Atomlagenabscheidung - im irischen Dublin vorgestellt.
Beneq® ist führender Anbieter von Atomlagenabscheidungsgeräten (engl. ALD) und Dünnfilmbeschichtungsdienstleistungen sowie weltweit führender Produzent von Dünnfilm-Elektrolumineszenz-Displays.
Dünnfilmlösungen von Beneq verbessern die Leistungsfähigkeit und Haltbarkeit von Elektronik-, Optik- und sensiblen Materialien und schützen vor Luftfeuchte, Korrosion und Anlaufen.
Die robusten, transparenten und maßgefertigten Lumineq®-Displays von Beneq werden in einer Vielzahl von Anwendungen für Extrembedingungen verwendet. Vollständig transparente Lumineq TASEL®-Displays vereinen überlegene Verlässlichkeit sowie ein einzigartiges glasklares Sichterlebnis.
http://www.beneq.com
http://www.beneq.com/beneq-r11.html
http://www.beneq.com/beneq-t2s.html
Weitere Informationen:
Matias Impivaara, Head of Marketing and Communications, +358-9-7599-530.
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