Canon neemt halfgeleideractiviteiten Molecular Imprints over
-- Fusie creëert onafhankelijk spin-offbedrijf met focus op ontwikkeling van kansen op de markt voor nanotechnologie
AUSTIN, Texas, 13 februari, 2014 /PRNewswire/ -- Molecular Imprints Inc. (MII), technisch marktleider voor systemen en oplossingen voor nanopatronen maakte vandaag bekend dat het een overeenkomst heeft gesloten met Canon Inc. in Tokio, Japan aangaande de verkoop van de activiteiten op het gebied van imprintlithografie-apparatuur voor de halfgeleiderindustrie. Canon produceert en verkoopt momenteel KrF excimere en i-line verlichtingsplatformen voor optische lithografie. Canon startte in 2004 met onderzoek naar nano-imprinttechnologie teneinde de lithografie-apparatuurmarkt voor geavanceerde hogeresolutiepatronen te kunnen betreden. Ten behoeve van de massaproductie ging de onderneming in 2009 een samenwerking aan met MMI en een vooraanstaande producent van halfgeleiders. Hiervoor werd gebruik gemaakt van de door MMI ontwikkelde Flash™ Imprint Lithography (J-FIL™) technologie.
(Logo: http://photos.prnewswire.com/prnh/20100504/MILOGO)
"Vier jaar geleden gingen we een zakelijke samenwerking aan met Canon om samen een technologisch functionele en betaalbare nanolithografie-oplossing voor de halfgeleiderindustrie te ontwikkelen en ik ben trots op de enorme vooruitgang die we sindsdien hebben geboekt in het bereiken van ons doel. Uitgaande van dit succes, was de fusie van onze bedrijven niets meer dan een natuurlijke volgende stap," aldus Mark Melliar-Smith, CEO van Molecular Imprints.
Canon lanceerde in 2011 Fase IV van diens Excellent Global Corporation Plan. Eén van de strategieën binnen dit plan betrof het ontwikkelen van de business door middel van een wereldwijde diversificatie. "De businessunit "Industry and Others" wordt door de overname van MII versterkt," verklaarde dr. Toshiaki Ikoma, CTO bij Canon. Dit is voor ons een spannende en innovatieve kans op het gebied van halfgeleiderproductie en we verheugen ons op het realiseren van een geavanceerde technologische ontwikkelingsfaciliteit in Austin, Texas."
Aan de basis van de oprichting van Molecular Imprints stond een aan de University of Texas in Austin (UT), door de professoren SV Sreenivasan en Grant Willson, ontwikkelde technologie. In de afgelopen jaren werkte Molecular Imprints samen met Canon en andere infrastructuurpartners in de halfgeleiderindustrie. Gezamenlijk streeft men ernaar om de industrie op basis van de Wet van Moore vooruit te helpen door de resolutielimieten en de escalerende kostenlast van optische en EUV-lithografie te omzeilen. Een eerste toepassing van J-FIL t.b.v. een geavanceerd FLASH-geheugen staat in de komende twee jaar gepland.
Terwijl Canon zorgdraagt voor de toepassing van J-FIL t.b.v. een geavanceerde halfgeleiderproductie, leidt deze fusieovereenkomst ook tot de creatie van een nieuwe onderneming die de oorspronkelijke naam "Molecular Imprints" blijft dragen. Het spin-offbedrijf profiteert van een gigantisch startvoordeel, omdat personeel op sleutelposities behouden blijft en er sprake is van gezamenlijke rechten tussen Canon en MII's IP-portfolio. Daarnaast zullen meerdere systeemplatforms worden ontworpen, om aan de toenemende vraag naar nanolithografie voor de consumentenelektronica en biomedische toepassingen te kunnen voldoen. "We kijken ernaar uit om een betaalbare productieoplossing op nanoschaal te kunnen bieden voor displays, harde schijven, de biotechnologie en andere opkomende markten," aldus David Gino, COO bij Molecular Imprints. Zodra de Molecular Imprints in de nieuwe ondernemingsvorm een feit is, voorafgaand aan het sluiten van de fusieovereenkomst met Canon, zal David Gino de functie van CEO van de nieuwe onderneming op zich nemen.
De fusie zal naar verwachting in april 2014, na toestemming van de aandeelhouders en autoriteiten zijn afgerond.
Over Molecular Imprints, Inc.
Molecular Imprints, Inc. (MII) is technologisch marktleider op het gebied van hogeresolutie- en betaalbare systemen en oplossingen voor het aanbrengen van nanopatronen. MII is bezig om diens innovatieve Jet and Flash™ Imprint Lithography (J-FIL™) technologie te optimaliseren met het doel wereldwijd technologisch leider te worden op het gebied van groot volume patroonoplossingen voor halfgeleiderapparatuur en het bewerken van opkomende markten op het vlak van displays, harde schijven en de biotechnologie. MII maakt het aanbrengen van nanopatronen mogelijk dankzij de imprintlithografie-oplossing die betaalbaar is en tevens kan worden uitgebreid tot sub-20 nanometer afmetingen.
Contact voor de pers
Paul Hofemann
Molecular Imprints Inc.
+1-512-225-8441
[email protected]
Share this article