Le attività per i semiconduttori di Molecular Imprints saranno acquisite da Canon

-- La fusione crea una società indipendente spin off che si concentrerà sullo sviluppo delle opportunità offerte dal mercato delle nanotecnologie

AUSTIN, Texas, 14 febbraio 2014 /PRNewswire/ -- Molecular Imprints Inc. (MII), leader di mercato e per la tecnologia nel settore dei sistemi e delle soluzioni per la nanomodellizzazione ha annunciato oggi di avere sottoscritto un contratto per la vendita delle proprie attività per le apparecchiature per la stampa in litografia dei semiconduttori a Canon Inc. di Tokyo, Japan.  Canon attualmente produce e commercializza piattaforme ottiche per la litografia i-line ed eccimero KrF. Canon ha iniziato le ricerche nel settore della tecnologia per nanostampa nel 2004 per poter entrare nel mercato delle apparecchiature per litografia con modellizzazione a elevata risoluzione e all'avanguardia. Dal 2009, la Company si è impegnata in uno sviluppo congiunto con MII, uno dei principali produttori di semiconduttori per la produzione di massa usando la tecnologia Jet and Flash™ Imprint Lithography (J-FIL™) di MII.

(Logo: http://photos.prnewswire.com/prnh/20100504/MILOGO)

"Dopo avere costituito un'alleanza commerciale con Canon quattro anni fa per fornire una soluzione per la nanolitografia a basso costo per il settore dei semiconduttori, è con grande piacere che posso annunciare i grandi progressi compiuti per conseguire questo obiettivo. A partire da questo successo, la fusione è solo lo sviluppo naturale successivo per le nostre società," ha dichiarato Mark Melliar-Smith, Amministratore Delegato di Molecular Imprints.

Nel 2011 Canon ha lanciato la Fase IV del proprio Piano per una Società Globale Eccellente, e una delle strategie di questo piano prevedeva di perseguire lo sviluppo aziendale grazie a una diversificazione globalizzata. "L'acquisizione di MII rafforzerà la nostra unità aziendale 'Industria e Altri', ha dichiarato il Dr. Toshiaki Ikoma, CTO di Canon . "Siamo molto spronati da questa opportunità per la produzione innovativa di semiconduttori e auspichiamo di sviluppare a breve capacità avanzate di sviluppo della tecnologia ad Austin, Texas."

Molecular Imprints è stata fondata grazie a una tecnologia sviluppata presso la University of Texas di Austin (UT) dai Professori SV Sreenivasan e Grant Willson. Negli ultimi anni, Molecular Imprints ha lavorato con Canon e altri partner di infrastruttura del settore dei semiconduttori per consentire di continuare lo sfruttamento della Legge di Moore con un approccio laterale ai limiti della risoluzione e scalando l'onere dei costi della litografia ottica ed EUV. L'adozione di J-FIL per la produzione è in programma per memorie FLASH avanzate nei prossimi due anni.

Mentre Canon integra J-FIL nella produzione avanzata di semiconduttori, questo accordo per la fusione consente di creare una società di spin off che proseguirà nelle attività con la denominazione "Molecular Imprints" e potrà sfruttare il grande vantaggio di mantenere il personale e i diritti posseduti congiuntamente da Canon nel portafoglio IP di MII, unitamente a piattaforme multiple per sistemi progettate per sostenere la crescente domanda di modellizzazione in nanoscala per applicazioni elettroniche consumer e biomediche. "Siamo impazienti di poter fornire una soluzione per la produzione a basso costo in nanoscala per i mercati della visualizzazione, delle unità disco rigido, della biotecnologia e per altri mercati emergenti," ha affermato David Gino, COO di Molecular Imprints.  Gino sarà il nuovo Amministratore Delegato della nuova Molecular Imprints una volta completato lo spin off della società, che precederà la conclusione dell'accordo per la fusione con Canon.

Si prevede che la fusione sarà completata entro aprile 2014 dopo avere ricevuto le dovute approvazioni da parte degli azionisti e statali. 

Informazioni su Molecular Imprints, Inc.

Molecular Imprints, Inc. (MII) è un leader tecnologico per le soluzioni e i sistemi per nanomodellizzazione a elevata risoluzione e ridotto costo di proprietà. MII sta fruttando la propria innovativa tecnologia Jet and Flash™ Imprint Lithography (J-FIL™) per diventare un leader tecnologico a livello mondiale per le soluzioni di modellizzazione a elevato volume per dispositivi semiconduttori, e per i mercati emergenti della visualizzazione, delle unità disco rigido e della biotecnologia.  MII consente di avere una modellizzazione in nanoscala grazie a una soluzione di stampa per la litografia di costo contenuto e utilizzabile per dimensioni fino a sub-20 nanometri.

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Paul Hofemann
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