Molecular Imprints consigue un contrato para suministrar equipamiento avanzado litográfico

AUSTIN, Texas, November 17, 2011 /PRNewswire/ --

Molecular Imprints consigue un contrato para suministrar equipamiento avanzado litográfico y servicios de láminas de patrón como apoyo de la iniciativa del consorcio mundial 450 mm (G450c)

- Molecular Imprints recibe pedidos para el primer sistema litográfico de 450mm del principal fabricante IC

Molecular Imprints, Inc., líder de mercado y tecnología para sistemas y soluciones de nanopatrón, ha anunciado hoy que ha recibido un contrato por parte del principal fabricante IC para construir el primer sistema de litografía de la industria capaz de llegar a 450 mm. Esta adquisición incluye un contrato de servicios de láminas de patrón de múltiples años y la opción para sistemas adicionales de nanoimpresión de 450 mm. La tecnología propia de la compañía Jet and Flash™ Imprint Lithography (J-FIL™) y la disponibilidad comercial de máscaras de impresión de alta calidad fueron factores decisivos en la selección de Molecular Imprints para funcionar como pieza clave de la transición industrial a las láminas de 450 mm.

(Logo:  http://photos.prnewswire.com/prnh/20100504/MILOGO )

"El equipamiento de semiconductores y de la cadena de suministro de fabricantes debe contar con un acceso primario a las láminas de patrón completo de 450 mm con el objetivo de desarrollar y optimizar sus productos y procesos a tiempo para llevar a cabo esta transición. Además del mayor tamaño del sustrato, el aumento de las características de pequeño tamaño en la lamina debe llegar lo suficientemente lejos como para ser útil como fabricante de equipamiento original y como herramienta de desarrollo de procesos", explicó Mark Melliar-Smith, director general y consejero delegado de Molecular Imprints. "Nuestra tecnología J-FIL™ es la única solución de litografía disponible en la actualidad que puede cumplir con los amplios requisitos de la transición de la industria hacia 450 mm. Estamos impacientes por mejorar nuestras capacidades para conseguir una transición a tiempo hacia 450 mm con las normas de diseño requeridas".

Con la litografía óptica de 193i ya forzada para adoptar los esquemas de patrón múltiples para fabricar los actuales semiconductores y preparación elusiva hacia EUV no es ninguna sorpresa que la tecnología J-FIL de MII haya decidido comenzar con la transición hacia 450 mm. J-FIL ha demostrado el patrón 24 nm con una robustez de línea excepcional (<2 nm LER, 3 sigma) y una dimensión crítica de la uniformidad (1,2 nm CDU, 3 sigma) con ampliación más allá de sub-18 nm usando un proceso de paso de patrón sencillo. El coste de propiedad inherente de J-FIL ofrece ventajas para conseguir evitar las fuentes de luz de rayos x que están hambrientas de energía, complicadas lentes ópticas y espejos y los fotorresistentes ultrasensibles desarrollados, estando correctamente alineados a la productividad de movimiento relacionada de la iniciativa de 450 mm.  

Como parte de esta concesión de contrato de 450 mm, Molecular Imprints proporcionará el sistema de litografía y los servicios de plancha posteriores desde la segunda mitad del año que viene. El acuerdo de planchas de cinco años insta a miles de planchas de patrón completas de 450 mm para que se suministren al consorcio G450C con una opción de compra de sistemas de impresión adicionales J-FIL tal y como es requerido.

Acerca de Molecular Imprints, Inc.

Molecular Imprints, Inc. (MII) es líder tecnológico para sistemas de nanopatrón de alta resolución y bajo coste de propiedad y soluciones para las industrias de los semiconductores y de disco duro (HDD). MII ha mejorado su innovadora tecnología Jet and Flash™ Imprint Lithography (J-FIL™) con la aplicación de material IntelliJet™ para convertirse en líder mundial de mercado y líder de tecnología en soluciones de patrón de alto volumen para instrumentos de almacenamiento y memoria, al tiempo que permite los mercados emergentes en pantallas, energía limpia, biotecnología y otras industrias. MII permite los patrones a nanoescala por medio del despliegue de una solución completa de nanopatrón que cuenta con un bajo coste, compatible y ampliable a los niveles de resolución de sub-10 nanómetros. Si desea más información síganos en twitter o visite http://www.molecularimprints.com

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