Molecular Imprints erhält Auftrag für fortschrittliche Lithografieausrüstung und Wafer-Patterning-Dienste und unterstützt damit die Initiative des Global 450 mm Consortium (G450c)

AUSTIN, Texas, November 17, 2011 /PRNewswire/ --

Molecular Imprints erhält Auftrag von führendem Chiphersteller für erstes 450 mm-Lithografie-System

Molecular Imprints, Inc., der Markt- und Technologieführer in Nano-Patterning-Systemen und -Lösungen gab heute bekannt, dass dem Unternehmen ein Auftrag von einem führenden Chiphersteller erteilt wurde, das branchenweit erste 450mm-fähige Lithografie-System zu bauen. Der Auftrag umfasst einen mehrjährigen Vertrag für Wafer-Patterning-Dienste und die Option für zusätzliche Nano-Imprint-Anlagen von 450 mm. Die firmeneigene Technologie Jet and Flash™ Imprint Lithography (J-FIL™) und die kommerzielle Verfügbarkeit von hochqualitativen Imprint-Masken waren die entscheidenden Faktoren bei der Auswahl von Molecular Imprints als Grundpfeiler für die Branche beim Übergang zu Wafern von 450 mm.

(Logo:  http://photos.prnewswire.com/prnh/20100504/MILOGO )

"Die Versorgungskette der Hersteller von Halbleitern und Halbleiteranlagen muss frühen Zugang zu hochqualitativen, vollstrukturierten Wafern von 450 mm haben, um Produkte und Prozesse rechtzeitig für diesen Übergang optimieren zu können. Zusätzlich zu den größeren Substratpartikeln müssen immer kleiner werdende Bausteine auf dem Wafer weit genug in die Zukunft reichen, damit sie als Instrument für OEMs und zur Verfahrensentwicklung von Nutzen sind", so Mark Melliar-Smith, President und CEO von Molecular Imprints. "Unsere J-FIL™ Technologie ist die momentan einzig verfügbare lithografische Lösung, die für den Übergang auf 450 mm die umfangreichen Anforderungen erfüllt. Wir freuen uns, dass wir mit unseren Fähigkeiten zu einem rechtzeitigen Übergang auf 450 mm entsprechend der erforderlichen Designvorschriften beitragen können."

Da die optische 193i-Lithografie schon gezwungen ist, komplexe Mehrfachstrukturierungsverfahren zur Fertigung der heutigen Halbleiter anzuwenden, und aufgrund der nur schwer vorstellbaren Eignung von EUV, war es keine Überraschung, dass man sich der J-FIL-Technologie von MII zum Übergang auf 450 mm bediente. J-FIL hat eine 24-nm-Strukturierung mit einer bemerkenswerten Kantenrauigkeit (< 2 nm LER, 3 Sigmas) sowie eine Critical Dimension Uniformity (1,2 nm CDU, 3 Sigmas) bewiesen und kann unter Zuhilfenahme eines einfachen einzelnen Strukturierverfahrensschritts auf unterhalb 18 nm erweitert werden. Die Gesamtbetriebskostenvorteile von J-FIL, die durch die Vermeidung von Energie verschlingende Röntgenlichtquellen, komplexen optischen Linsen und Spiegeln sowie noch zu entwickelnden ultrasensitiven Fotolacken erreicht werden, bestätigen die gute Konformität dieses Verfahrens mit dem zugrunde liegenden Produktivitätsbeweggrund der 450-mm-Initiative.

Molecular Imprints wird als Teil dieser 450-mm-Auftragsvergabe die Lithografieanlage und darauffolgend zu Beginn der zweiten Hälfte des nächsten Jahres Wafer-Dienstleistungen zur Verfügung stellen. Der fünfjährige Vertrag für Wafer-Services fordert die Lieferung von Tausenden vollstrukturierten Wafern mit 450 mm an das G450D Consortium mit der Kaufoption von gegebenenfalls zusätzlichen J-FIL Imprint-Anlagen.

Über Molecular Imprints, Inc.

Molecular Imprints, Inc. (MII) ist der Technologieführer für hochauflösende Nano-Patterning-Systeme und -Lösungen bei niedrigen Gesamtbetriebskosten für die Halbleiter- und Festplattenlaufwerk (HDD)-Industrie.  MII nutzt seine Jet and Flash™ Imprint Lithography (J-FIL™) -Technologie unter Verwendung des Materials IntelliJet™, um weltweiter Markt- und Technologieführer in Patterning-Lösungen der Großserie für Storage- und Speichergeräte zu werden und gleichzeitig den aufstrebenden Märkten in Display, erneuerbaren Energien, Biotechnologie und anderen Industrien zu helfen.  MII ermöglicht Nanostrukturierung durch die Bereitstellung einer umfassenden Lösung mit Nano-Patterning, die kostengünstig, kompatible und auf eine Auflösung von weniger als 10 Nanometer erweiterbar ist.  Für weitergehende Information, oder um uns auf Twitter zu folgen, besuchen Sie bitte http://www.molecularimprints.com

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Paul Hofemann
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