Molecular Imprints remporte un contrat de fournitures d'équipements de lithographie de pointe et de services de moulage de tranches auprès du consortium baptisé Global 450mm (G450c)

AUSTIN, Texas, November 18, 2011 /PRNewswire/ --

- Molecular Imprints reçoit une commande pour le premier système lithographique de 450 mm auprès de l'un des plus gros fabricants CI

Molecular Imprints, Inc., chef de file du marché et la technologie en matière de systèmes et solutions de nano-moulage, a annoncé aujourd'hui que la société avait remporté un contrat auprès de l'un des plus gros fabricants CI pour la fabrication du premier système de l'industrie lithographique compatible avec 450 mm.  L'achat comprend un contrat de service de moulage de tranches de plusieurs années et en option, des systèmes de nano-impression supplémentaires. La technologie propriétaire de lithographie par impression (Jet and Flash™ Imprint Lithography) (J-FIL™) et la disponibilité commerciale de masques deimpression haute résolution ont été des facteurs décisifs dans la décision d'attribuer à Molecular Imprints un rôle prépondérant lors de la transition de l'industrie vers des tranches de 450 mm.

(Logo :  http://photos.prnewswire.com/prnh/20100504/MILOGO)

« La chaîne d'approvisionnement d'équipements et de fabricants de semi-conducteurs doit avoir accès rapidement à des tranches entièrement moulées de 450 mm de haute résolution, afin de pouvoir développer et optimiser les produits et les procédés de fabrication à temps pour la transition. En plus de substrat de plus grande taille, les caractéristiques des dispositifs de tranche de plus en plus petits doivent être suffisamment avancées technologiquement pour être utiles en tant qu'outil de développement d'OEM et de procédés », commente Mark Melliar-Smith, président-directeur général de Molecular Imprints.   « Notre technologie J-FIL™ est la seule solution lithographique actuellement disponible sur le marché afin d'effectuer le virage de l'industrie vers des tranches de 450 mm. Nous avons hâte de mettre à profit de nos capacités afin de permettre une transition 450 mm opportune et répondant aux normes de conception requises ».

La lithographie optique 193i avait déjà été forcée d'adopter des schémas complexes de moulages multiples pour la fabrication des semiconducteurs d'aujourd'hui et comme l'EUV ne semblait pas être prêt, il n'est pas étonnant que la technologie J-FIL de MII ait été sélectionnée pour assurer la transition vers de tranches de 450 mm. J-FIL a prouvé une capacité de moulage de 24 nm avec une rugosité de bord de ligne (LER)  (< 2 nm LER, 3 sigma) et une dimension critique uniforme (CDU) (1,2 nm CDU, 3 sigma) exceptionnelles et il est même possible d'atteindre des résultats en deçà de 18 nm en utilisant un procédé simple de moulage en une seule étape. Les avantages des coûts inhérents à la propriété de J-FIL que l'on obtient en évitant les sources de rayons X consommatrices d'énergie, les miroirs et les lentilles optiques complexes et les photorésists ultrasensibles à développer dans le futur, le rendent parfaitement adapté aux motifs sous-jacents de productivité de l'initiative 450 mm.  

Molecular Imprints fournira, en parallèle au contrat 450 mm, le système lithographique et les services de moulage subséquents au cours du second semestre de l'année prochaine. L'accord de services de 5 ans prévoit la livraison de milliers de tranches entièrement structurées de 450 mm au consortium G450C avec, en option, la possibilité d'acheter des systèmes J-FIL au besoin.

A propos de Molecular Imprints, Inc.

Molecular Imprints, Inc. (MII) est le numéro un technologique en matière de systèmes et de solutions de nanomoulage à haute résolution dans les industries de semiconducteurs et disques durs (HDD). MII s'appuie sur sa technologie de lithographie d'impression Jet and Flash™ (J-FIL™) et sur le système IntelliJet™ afin de s'imposer en tant que chef de file technologique en matière de solutions de moulage de grand volume pour les périphériques de stockage et de mémoire tout en favorisant les marchés émergents, les énergies renouvelables, la biotechnologie et les autres industries. MII permet le moulage à l'échelle nanométrique grâce une solution de nano-moulage bon marché, compatible et pouvant être réduit à des niveaux de résolution en deçà de 10 nanomètres. Pour obtenir plus d'informations ou nous suivre sur Twitter, visitez le site http://www.molecularimprints.com.

Nom du RP d'entreprise
Paul Hofemann
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