アクセリス、SEMICON Japan 2024への参加を発表

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Axcelis Technologies, Inc.

03 12月, 2024, 09:00 JST

マサチューセッツ州ビバリー, 2024年12月3日 /PRNewswire/ --  半導体業界向けのイオン注入ソリューションを提供する大手サプライヤーのアクセリス・テクノロジー社（Nasdaq：ACLS）は本日、SEMICON Japan 2024展示会でPurion™およびGSD Ovation™シリーズのイオン注入装置を展示すると発表しました。この展示会は、12月11日から13日まで、日本の東京ビッグサイトで開催されます。アクセリスは、東4ホールの4261ブースに出展いたします。

半導体メーカーの方々をアクセリス展示ブースにご招待し、技術および製造上の大きな利点をもたらす革新的なイオン注入ソリューションに直接触れていただきます。

  • Purion Power™シリーズ - パワーデバイスの用途を問わず、薄型シリコン、TAIKO、およびシリコンカーバイド（SiC）加工に対する当社の革新的なソリューションを採用し、150mm、200mm、300mmのウェハハンドリング能力を有しています。
  • Purion H™シリーズ - 比類のない純度と精度を提供しながら、高電流動作空間全体で業界をリードする生産性を実現します。
  • Purion H200™ - モノのインターネット（IoT）やパワー用途向けに設計されたデバイスに特有の注入ニーズを念頭に開発された、当社が誇る最先端の単一高電流、中エネルギー注入機です。
  • Purion XE™シリーズ - 新しいPurion XEmaモデルを含む、最も幅広いエネルギー範囲を備えた業界をリードする高エネルギー注入プラットフォームであり、特許取得済みのBoost Technology™を備え、最大15MeVの最先端イメージセンサー用途向けに設計されています。
  • Purion M™シリーズ - 電源消費量が最も低い中電流イオン注入装置により極めて広範な中電流線量領域での利用を実現し、進化を続ける最新の注入要件に対応する比類のない柔軟性を提供します。
  • GSD Ovation™ - ウェハ分割（シリコンおよびシリコンカーバイド）や代替的なサブストレート（リチウムタンタレートおよびセラミック）を採用した新たな用途に対応しており、高電流および高エネルギーのバッチプラットフォーム能力を拡張する上で最もコスト効率が高い手段を提供します。

アクセリスはさらに、12月12日（木）に以下のイベントを開催します。

  • SiCパワーデバイス製造におけるイオン注入テクノロジー 出展企業の技術スポット（東5ホール、午後3時30分～3時50分）
    チップメーカーがSiCウェハの150 mmから200 mmへの移行を進める中で、パワーデバイス市場は大きな転機を迎えています。イオン注入装置は、複数のウェハサイズや様々な種類のサブストレートに対応し、様々な注入温度で稼働できる柔軟性を備えていなければなりません。是非ご来場いただき、アクセリスのシリコンおよびシリコンカーバイド（SiC）パワー半導体製品ライン、SiC注入Alイオンソースおよび生産性オプション、Si IGBTウェハハンドリングおよびプロトン（H+）注入リューションをご覧ください。
  • アクセリス・ハッピーアワー・セレブレーション
    （第4ホール4261ブース、午後4時～5時）
    お飲み物やスナックを用意してお待ちしています。

アクセリス・テクノロジーズの社長兼CEOであるRussell Lowは次のように述べています。「当社はこの重要な市場に参入することで、日本のチップメーカーの皆様に最先端のイオン注入技術を提供する機会が得られることを嬉しく思っています。私たちは、日本における基盤とサポートインフラを拡大できることを誇りに思います。お客様の成功を確実にするために、最も革新的で可能な注入技術とサポートソリューションを提供することで、市場シェアの拡大に引き続き注力していきます。」

アクセリス・ジャパンのカントリーマネージャーであるCharles Pieczulewskiは、「アクセリスのパワー、イメージセンサー、メモリー、ロジックアプリケーション向けの幅広い注入製品ポートフォリオは、日本のお客様にもご好評をいただいています。SEMICON Japanで当社の最新の技術的進歩を展示できることを楽しみにしています。」

アクセリスについて：
 マサチューセッツ州ビバリーに本社を置くアクセリス（Nasdaq：ACLS）は、45年以上にわたり半導体業界に革新的で生産性の高いソリューションを提供してきました。アクセリスは、IC製造プロセスにおいて最も重要で不可欠な工程の一つである、イオン注入システムの設計、製造、および完全なライフサイクルサポートを通じて、最適なプロセスアプリケーションを実現する開発に従事しています。アクセリスの詳細については、www.axcelis.comをご覧ください。

アクセリスの連絡先：
日本：
Charles Pieczulewski（カントリーマネージャー）+81.3.5860.2586

グローバル：
Maureen Hart（記事／メディア）+1.978.787.4266
David Ryzhik (Investor Relations) +1.978.787.2352

ロゴ - https://mma.prnewswire.com/media/1756239/Axcelis_1_Logo.jpg

SOURCE Axcelis Technologies, Inc.