HexaTech、直径3インチの 窒化アルミニウム基板製品を発売
AlNベース技術の商業規模での生産を目指す
ノースカロライナ州モリスビル、2026年2月10日 /PRNewswire/ -- HexaTech, Inc.は本日、新しい直径3インチ(76.2 mm)の単結晶窒化アルミニウム(AlN)基板製品を即時に量産開始したことを発表しました。直径3インチの基板は、直径100ミリメートル材料の実現に向けた重要な移行段階のマイルストーンと位置づけられており、AlN技術を用いた高電圧・高周波電子デバイスの将来的な大量生産を支えるものです。単結晶物理気相輸送(PVT)法で成長させたAlN基板の世界有数の商用サプライヤーであるHexaTechは、生産規模と最先端の製品性能を両立させることで、製品性能の向上を推進しています。
「この3インチの発表により、 HexaTechは、業界をリードする構造品質および表面品質を備えたAlN材料を提供してきた実績をさらに発展させるとともに、既存の2インチ・プラットフォームで長年にわたり実現してきた、巨視的欠陥のない性能を引き続き維持しています」とHexaTechの研究開発マネージャーであるRafael Dalmau博士は述べました。
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