2014

Molecular Imprints recibe un pedido para la compra de múltiples unidades

- Molecular Imprints recibe un pedido para la compra de múltiples unidades a fin de proporcionar equipamiento de litografía avanzado para la fabricación de semiconductores de alto volumen

- Seguimiento de Molecular Imprints Jet and Flash™ Imprint Lithography (J-FIL™) para la producción de memorias de semiconductores en 2014

AUSTIN, Texas, 24 de septiembre de 2012 /PRNewswire/ -- Molecular Imprints, Inc. (MII), líder de mercado y tecnología para sistemas y soluciones de nanopatrón, ha anunciado hoy la recepción de un pedido de compra para múltiples módulos de impresión que se integrarán en los sistemas de stepper semiconductores de equipamiento de la compañía. Estos módulos incluyen la última tecnología propia MII Jet and Flash™ Imprint Lithography (J-FIL™), que despliega el rendimiento necesario para la fabricación en volúmenes elevados de dispositivos avanzados de memoria para semiconductores.

(Logo: http://photos.prnewswire.com/prnh/20100504/MILOGO )

"Esta adquisición de múltiples módulos representa un voto de confianza desde nuestros clientes en relación a que J-FIL está en las fases finales de la preparación de fabricación", indicó Mark Melliar-Smith, director general y consejero delegado de Molecular Imprints. "Nuestros socios de equipamiento y mascarillas comerciales y equipos internos han coordinado con éxito sus actividades de desarrollo, consiguiendo un progreso enorme el año pasado sobre todo dentro de las áreas de defectibilidad y coste de propiedad (CoO) general. Esperamos de forma impaciente la próxima fase de comercialización de nuestra tecnología J-FIL y permitir el mapa de ruta de dispositivos de memoria de semiconductores para los años venideros".

La tecnología J-FIL™ de la compañía ha demostrado un diseño demostrado de 24nm con una robustez del marco linear excepcional (<2nm LER, 3 sigma) y uniformidad de dimensión vital (1.2nm CDU, 3 sigma) y ampliación hasta los 10nm usando un sencillo proceso de paso de diseño. Las ventajas inherentes CoO de  J-FIL conseguidas al evitar las fuentes de iluminación EUV de energía limitada, lentes ópticas complejas y espejos y las dificultades con el uso de imagen que usan fotorresistencias ultrasensibles, hacen que estén correctamente alineadas con la fabricación de memoria de los semiconductores. 

Acerca de Molecular Imprints, Inc.
Molecular Imprints, Inc. (MII) es líder tecnológico para sistemas y soluciones de nanopatrón de alta resolución y bajo coste de propiedad. MII ha mejorado su innovadora tecnología Jet and Flash™ Imprint Lithography (J-FIL™) para convertirse en líder mundial de mercado y líder de tecnología en soluciones de patrón de alto volumen para instrumentos de almacenamiento y memoria, al tiempo que permite los mercados emergentes en pantallas, energía limpia, biotecnología y otras industrias. MII permite los patrones a nanoescala por medio del despliegue de una solución completa de nanopatrón que cuenta con un bajo coste, compatible y ampliable a los niveles de resolución de sub-10 nanómetros. Si desea más información síganos en Twitter o visite www.molecularimprints.com.

Contacto empresarial de RR.PP.
Paul Hofemann
Molecular Imprints, Inc.
+1-512-225-8441
phofemann@molecularimprints.com

SOURCE Molecular Imprints, Inc.



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